Galvanoplastia Informacion
Galvanoplastia Informacion
Galvanoplastia Informacion
It is commonly accepted and often quoted by electroplaters that one can make a poor
coating perform with excellent pretreatment, but one cannot make an excellent coating
perform with poor pretreatment . Es comúnmente aceptado y, a menudo citado por
electrochapeadores que se puede hacer una capa pobres realizan con el pretratamiento
excelente, pero no se puede hacer un excelente revestimiento realizar con el
pretratamiento pobres. Surface pretreatment by chemical and/or mechanical means is
important not only in the case of preparations for electroplating but is also required in
preparation for painting. pre-tratamiento de superficie por productos químicos y / o medios
mecánicos es importante no sólo en el caso de los preparados para galvanoplastia, pero
también es necesario en la preparación para la pintura. In either of these, methods are
designed to ensure good adhesion of the coating or paint to the surface. En cualquiera de
estos métodos están diseñados para asegurar una buena adherencia del revestimiento o
pintura a la superficie. Most (metal) surface treatment and plating operations have three
basic steps. La mayoría (de metal) y las operaciones de tratamiento superficial placas tienen
tres pasos básicos.
Deposition Deposición
From the above it would appear that the thickness of the electroplated layer on the substrate
is determined by the time duration of the plating. De lo anterior se desprende que el espesor
de la capa de galvanizado en el sustrato está determinada por la duración del tiempo de las
planchas. In other words, the longer time the object remains in the operating plating bath
the thicker the resulting electroplated layer will be. En otras palabras, el tiempo más largo
sea el objeto permanece en el baño de recubrimiento de funcionamiento de la más gruesa es
la capa resultante galvanizado será. Typically, layer thicknesses may vary from 0.1 to 30
microns (micron = one millionth of a meter ), though nothing prevents the deposition of
thicker or thinner layers, as desired. Normalmente, los espesores de capa puede variar desde
0,1 a 30 micras (micra = una millonésima de metro ), aunque nada impide que la
deposición de capas delgadas o gruesas, según lo deseado. The geometric shape and
contour of an object to be plated affects the thickness of the deposited layer. La forma
geométrica y el contorno de un objeto a ser plateado afecta el espesor de la capa depositada.
In general, objects with sharp corners and features will tend to have thicker deposits on the
outside corners and thinner ones in the recessed areas. En general, los objetos con bordes
afilados y características tienden a tener depósitos más gruesos en las esquinas de afuera y
las más delgadas en las áreas hundidas. The cause of this difference in the resulting layer
thicknesses is that dc current flows more densely to sharp edges than to the less accessible
recessed areas, in other words, the current distribution is not uniform. La causa de esta
diferencia en el espesor de la capa resultante es que la corriente directa fluye con mayor
densidad de bordes afilados que a las zonas menos accesibles empotrado, en otras palabras,
la actual distribución no es uniforme. (Another, more accurate, explanation of this
phenomenon involves the geometry of the electric field lines that exist between cathode and
anode in the solution). (Otra, más exacto, la explicación de este fenómeno consiste en la
geometría del campo eléctrico de líneas que existen entre el cátodo y el ánodo en la
solución). In practice, an item such as, say, a watch or similar item with sharp faceted
corners are difficult (almost impossible, actually) to plate uniformly. En la práctica, un
elemento, como, por ejemplo, un reloj o un elemento similar con las esquinas angulosas
facetas son difíciles (casi imposible, en realidad) a la placa de manera uniforme. A plating
method known as " electroless plating ", which is outside the scope of this article, assures
uniformity of plated thickness even on highly irregular shaped objects. Un método de
recubrimiento conocido como " recubrimiento electrolítico ", que está fuera del alcance de
este artículo, asegura la uniformidad del espesor de plateado, incluso en forma de objetos
muy irregulares. In the case of electroplating, judicial placement of the anode(s) as well as
modifications of the current density are required to overcome the thickness irregularity
effects. En el caso de la galvanoplastia, la colocación judicial del ánodo (s) así como las
modificaciones de la densidad de corriente se requiere para superar los efectos de la
irregularidad de espesor. Electroplating processes will not, as a rule, conceal preexisting
surface imperfections such as scratches, dents or pits. Galvanoplastia procesos no, por regla
general, ocultar imperfecciones de la superficie preexistentes, tales como arañazos,
abolladuras o pozos. Actually, the plating process will more often than not, make most
surface blemishes even more pronounced. En realidad, el proceso de galvanizado será más
a menudo que no, que la mayoría de defectos superficiales aún más pronunciada. Thus it is
important to remove any undesirable surface marks prior to the plating action. Por lo tanto,
es importante eliminar las marcas de la superficie no deseados antes de la acción de la
galjanoplastia.
Another note of caution: one should not increase the cathodic potential (and current) too far
to avoid parasitic reactions that may occur beyond "over-potential reactions" in Figure 2.
Otra nota de precaución: no se debe aumentar el potencial catódico (y actual) demasiado
lejos para evitar reacciones parásitas que pueden producirse más allá "de las reacciones más
potencial" en la Figura 2. In cases of practical applications be it electrorefining ,
electrowinning , or plating the practitioner is interested only in the weight of metal
deposited on the cathode. En los casos de aplicaciones prácticas sea electrorefinación ,
electro , placas o el médico está interesado únicamente en el peso de metal depositado en el
cátodo. Any current causing other changes is considered "wasted". Cualquier corriente que
provoca otros cambios que se considera "perdido". Of course, according to Faraday's law
the overall amount of chemical change produced by any given quantity of electricity can be
exactly accounted for. Por supuesto, de acuerdo con la ley de Faraday, el importe global de
los cambios químicos producidos por cualquier cantidad dada de electricidad puede ser
exactamente en cuenta. Thus we define the current efficiency as the ratio between the
actual amount of metal deposited to that expected theoretically from Faraday's law. Así se
define el rendimiento de la corriente como la relación entre la cantidad real de metal
depositado a la esperada teóricamente a partir de la ley de Faraday. In other words, the ratio
of the weight of metal actually deposited to the weight that would have resulted if all the
current had been used for depositing is called the cathode efficiency, and it is desirable to
keep it as close to 100% as possible. En otras palabras, la relación entre el peso de metal
depositado en realidad el peso que han dado lugar a que todos los actuales se habían
utilizado para el depósito se llama la eficiencia del cátodo, y es deseable que lo mantenga lo
más cerca posible al 100% como sea posible.
The possibility of plating two metals from
the same solution at different potentials,
as discussed above, permits the creation
of complex structures with relatively
simple processes. La posibilidad de la
siembra dos metales de la misma solución
a diferentes potenciales, como se
mencionó anteriormente, permite la
creación de estructuras complejas con los
procesos relativamente simples. Figure 3
depicts the schematics of a practical
electrodeposition cell for the production
of super-lattice multilayers. La Figura 3
muestra el esquema de una célula
electrodeposición prácticas para la
producción de multicapas super-red. In
Fig. Fig. 3. 3. Schematics of a plating setup for this case, the deposition is carried out
the production of superlattice multilayers. using a computer controlled potentiostat
Esquema de una configuración de placas para that controls the potential of the piece to
la producción de multicapas superpuesta. be coated (the cathode ) against the
reference electrode . En este caso, el
depósito se realiza mediante un equipo controlado potenciostato que controla el potencial
de la pieza a recubrir (el cátodo ) contra el electrodo de referencia . A pulse train shaped
potential is enforced, resulting in the multilayer deposition. Un potencial de tren de pulsos
en forma se hace cumplir, que origina el depósito de múltiples capas. If one considers a
copper/nickel system, the potential difference between the two levels would be
approximately half a volt , with pure copper being deposited at the more positive potential
and an alloy at the more negative potential. Si se considera una moneda de cobre / sistema
de níquel, la diferencia de potencial entre los dos niveles sería de aproximadamente medio
voltios , con el cobre puro se deposita en el potencial positivo y una aleación más en el
potencial negativo más. The thickness of the layers is controlled by the width of the pulses,
very thin layers (less than a millionth of a cm ) can be deposited in a few milliseconds
(thousandth of a second) per layer. El espesor de las capas es controlada por el ancho de los
pulsos, muy delgadas capas (menos de una millonésima parte de un cm ) pueden ser
depositados en unos pocos milisegundos (milésimas de segundo) por capa. This way,
multilayers of the two metals can be deposited using a single bath to produce
magnetic/multilayer structures to be used in reading heads for computer hard discs. De esta
manera, multicapas de los dos metales pueden ser depositados con un solo baño para
producir magnética / estructuras de múltiples capas que se utilizan en la lectura se dirige a
los discos duros informáticos. This example illustrates how complex and sophisticated the
electrodeposition techniques may be. Este ejemplo ilustra lo complejo y sofisticado de las
técnicas de electrodeposición puede ser.
Appendix Apéndice
Electrodeposition or electrochemical deposition (of metals or alloys) involves the reduction
of metal ions from aqueous , organic, or fused salt electrolytes . Electrodeposición o
deposición electroquímica (de metales o aleaciones) implica la reducción de metales iones
de acuosa orgánica, o sal fundida, electrolitos . In it's simplest form the reaction in aqueous
medium at the cathode follows the equation En su forma más simple de la reacción en
medio acuoso en el cátodo sigue la ecuación
[1] [1] M +n + ne - ==> M M + n + ne - ==> M
with a corresponding anodic reaction. con su correspondiente anódica reacción. The anode
material can either be the metal to be deposited (in this case the electrode reaction is
electrodissolution that continuously supplies the metal ions) or the anode can be an inert
material and the anodic reaction is oxygen evolution (in this case the plating solution is
eventually depleted of metal ions). El material del ánodo puede ser el metal que se deposita
(en este caso la reacción del electrodo es electrodissolution que suministra continuamente
los iones de metal) o el ánodo puede ser un inerte material y la reacción anódica es la
evolución de oxígeno (en este caso la solución de la galjanoplastia es el tiempo de
agotamiento de los iones metálicos).
The deposition may, in principle, be accomplished via two different paths: El depósito
puede, en principio, llevarse a cabo a través de dos caminos diferentes:
The deposition reaction presented in Equation [1] is a reaction of charged particles at the
interface between a solid (metal) electrode and a liquid solution. La reacción de deposición
presentado en la ecuación [1] es una reacción de carga de partículas en la interfase entre un
sólido (metal) del electrodo y una solución líquida. The two types of charged particles that
can cross the interface are metal ions "M +n " and electrons "e - ". Los dos tipos de partículas
cargadas que pueden cruzar la interfaz son de metal iones "M + n" y electrones "e -".
The deposition reaction involves four types of issues. La reacción de deposición consta de
cuatro tipos de cuestiones. They are: Ellos son:
The reduction of a metal, which occurs during the plating process, has been generalized as
Equation [1] for a single metallic ion. La reducción de un metal, que se produce durante el
proceso de recubrimiento, se ha generalizado en la ecuación [1] por un ion metálico único.
Obviously, to reduce one mole of a given metal "n" moles of electrons are required.
Obviamente, para reducir un mol de un determinado metal "n" moles de electrones que se
requieren. That is, the total cathodic charge used in the deposition "Q" ( coulomb ) is the
product of the number of gram moles of the metal deposited "m", the number of electrons
taking part in the reduction "n", Avogadro's number "N a " (the number of atoms in a mole),
and the electrical charge per electron "Q e " ( coulomb ). Es decir, el total catódica de carga
utilizados en el depósito "Q" ( Coulomb ) es el producto del número de moles gramo del
metal depositado "m", el número de electrones que participan en la reducción de la "n", el
número de Avogadro " N a "(el número de átomos en un mol), y la carga eléctrica por
electrones "e Q" ( Coulomb ). Thus, the following equation gives the charge required to
reduce "m" mole of metal: Por lo tanto, la siguiente ecuación da la carga necesaria para
reducir la "m" mole de metal:
[2] [2] Q = mn N a Q e Q = mn N a Q e
Now, the product of the last two terms in this equation is the " Faraday constant " "F".
Ahora, el producto de los dos últimos términos en esta ecuación es la " constante de
Faraday "," F ". Therefore, the number of moles of metal reduced by charge "Q" can be
obtained as: Por lo tanto, el número de moles de metal reducido por la carga "Q" se puede
obtener como:
[3] [3] m = Q / (n F) m = Q / (n F)
On the other hand, the total charge used in the deposition can be obtained as the product of
the current "I" ( ampere ) and the time of deposition "t" (second) if the deposition current is
held constant. Por otro lado, el total de carga utilizados en el depósito se puede obtener
como el producto de la corriente "I" ( amperios ) y el tiempo de deposición de "t" (segundo)
si el depósito actual se mantiene constante. Or, if the current varies during the deposition: O
bien, si la corriente varía durante la deposición:
[4] [4]
So, the number of moles deposited can be calculated as: Así, el número de moles
depositados se puede calcular como:
[5] [5]
The weight of the deposit "w" ( gram ) can now be obtained by multiplying Equation [5]
with the atomic weight "M w " of the deposited metal. El peso del depósito "w" (
programa ), ahora se puede obtener multiplicando la ecuación [5] con el peso atómico "w M"
del metal depositado. Finally, to calculate the thickness of the deposit, we have to use the
density of the metal "D" (gram/ cm 3 ): Por último, para calcular el espesor del depósito,
tenemos que usar la densidad del metal "D" (g / cm 3):
where "V" is the volume of the deposited metal in cm 3 , "A" is the area of the deposit in cm
2
, and "T" is its thickness in cm . donde "V" es el volumen del metal depositado en cm 3,
"A" es el área del depósito en cm 2, y "T" es su espesor en cm . Solving for thickness, using
Equations [5] and [6] we have the useful practical expression: Solución de espesor,
utilizando las ecuaciones [5] y [6] tenemos la expresión práctica de utilidad:
[7] [7]
As mentioned above, if the current was held constant during the deposition, the integral in
Equation [7], can be replaced by the simple product of current and time "I×t". Como se
mencionó anteriormente, si la corriente se mantiene constante durante la deposición, la
integral en la ecuación [7], puede ser reemplazado por el simple producto de la hora actual
y "I × t".
Bibliography Bibliografía
Electroplating Galvanoplastia
From Wikipedia, the free encyclopedia De Wikipedia, la enciclopedia libre
copper electroplating machine for layering PCBs de cobre electrolítico de la máquina de capas PCB
Electroplating is a plating process in which metal ions in solution are moved by an electric
field to coat an electrode. Galvanoplastia es un recubrimiento proceso en el que los iones
metálicos en solución se mueven por un campo eléctrico para cubrir un electrodo. The
process uses electrical current to reduce cations of a desired material from a solution and
coat a conductive object with a thin layer of the material, such as a metal. El proceso utiliza
eléctrica actual para reducir los cationes de un material que desee de una solución y una
capa conductora objeto con una capa delgada de material, tal como un metal. Electroplating
is primarily used for depositing a layer of material to bestow a desired property (eg,
abrasion and wear resistance, corrosion protection, lubricity , aesthetic qualities, etc.) to a
surface that otherwise lacks that property. Galvanoplastia se utiliza principalmente para
depositar una capa de material de otorgar una propiedad deseada (por ejemplo, la abrasión
y resistencia al desgaste, la corrosión de protección, lubricación , cualidades estéticas, etc) a
una superficie que de otro modo carece de esa propiedad. Another application uses
electroplating to build up thickness on undersized parts. Otra aplicación de galvanoplastia
utiliza para construir espesor en las partes inferior.
Other electroplating processes may use a nonconsumable anode such as lead. Otros
procesos de galvanoplastia puede usar un ánodo no consumible como el plomo. In these
techniques, ions of the metal to be plated must be periodically replenished in the bath as
they are drawn out of the solution. [ 2 ] En estas técnicas, los iones del metal plateado se debe
reponer periódicamente en el baño, ya que se extraen de la solución. [2]
Contents Contenido
[hide]
1 Process Un proceso de
o 1.1 Strike Strike 1.1
o 1.2 Current density 1.2 La densidad de corriente
o 1.3 Brush electroplating 1.3 cepillo de galvanoplastia
o 1.4 Electroless deposition 1.4 depósito electrolítico
o 1.5 Cleanliness 1.5 Limpieza
2 Effects 2 Efectos
3 Limitations 3 Limitaciones
4 History 4 Historia
5 See also 5 Véase también
6 References 6 Referencias
o 6.1 Notes 6.1 Notas
o 6.2 Bibliography 6.2 Bibliografía
7 External links 7 Enlaces externos
Electroplating of a metal (Me) with copper in a copper sulfate bath. Deposiciones de un metal
(Me) con el cobre en un baño de sulfato de cobre.
The anode and cathode in the electroplating cell are both connected to an external supply of
direct current - a battery or, more commonly, a rectifier. El ánodo y el cátodo en la celda de
galvanoplastia están conectadas a una fuente externa de corriente continua - una batería o,
más comúnmente, un rectificador. The anode is connected to the positive terminal of the
supply, and the cathode (article to be plated) is connected to the negative terminal. El ánodo
se conecta al terminal positivo de la fuente, y el cátodo (artículo para ser plateado) está
conectado al terminal negativo. When the external power supply is switched on, the metal
at the anode is oxidized from the zero valence state to form cations with a positive charge.
Cuando la fuente de alimentación externa está encendido, el metal en el ánodo se oxida en
el cero de valencia estado para formar cationes con una carga positiva. These cations
associate with the anions in the solution. Estos cationes asociados con los aniones en la
solución. The cations are reduced at the cathode to deposit in the metallic, zero valence
state. Los cationes se reducen en el cátodo para depositar en el estado metálico, la valencia
cero. For example, in an acid solution, copper is oxidized at the anode to Cu 2+ by losing
two electrons. Por ejemplo, en una solución ácida, el cobre se oxida en el ánodo de Cu 2 +
por la pérdida de dos electrones. The Cu 2+ associates with the anion SO 4 2- in the solution
to form copper sulfate. El Cu 2 + se asocia con el anión SO 4 2 - en la solución para formar
sulfato de cobre. At the cathode, the Cu 2+ is reduced to metallic copper by gaining two
electrons. En el cátodo, el Cu 2 + se reduce a cobre metálico al ganar dos electrones. The
result is the effective transfer of copper from the anode source to a plate covering the
cathode. El resultado es la transferencia efectiva de cobre de la fuente del ánodo a una placa
que cubre el cátodo.
The plating is most commonly a single metallic element , not an alloy . El forro es más
comúnmente una sola metálico elemento no una aleación . However, some alloys can be
electrodeposited, notably brass and solder . Sin embargo, algunas aleaciones pueden
electrodeposited, sobre todo de bronce y la soldadura .
Many plating baths include cyanides of other metals (eg, potassium cyanide ) in addition to
cyanides of the metal to be deposited. Muchos baños galvánicos incluyen cianuros de otros
metales (por ejemplo, cianuro de potasio ), además de los cianuros del metal a depositar.
These free cyanides facilitate anode corrosion, help to maintain a constant metal ion level
and contribute to conductivity. Estos cianuros libres facilitar la corrosión del ánodo, ayudan
a mantener un nivel constante de iones metálicos y contribuir a la conductividad.
Additionally, non-metal chemicals such as carbonates and phosphates may be added to
increase conductivity. Además, otras substancias no metálicas, tales como carbonatos y
fosfatos se pueden agregar para aumentar la conductividad.
When plating is not desired on certain areas of the substrate, stop-offs are applied to
prevent the bath from coming in contact with the substrate. Cuando chapado no es deseada
en ciertas áreas del sustrato, para dejar de compensaciones se aplican para evitar el baño de
entrar en contacto con el sustrato. Typical stop-offs include tape, foil, lacquers , and waxes .
[3]
Típica stop-offs "se incluyen la cinta, papel, lacas y ceras . [3]
Initially, a special plating deposit called a "strike" or "flash" may be used to form a very
thin (typically less than 0.1 micrometer thick) plating with high quality and good adherence
to the substrate. Inicialmente, un depósito especial chapado llamado una "huelga" o "flash"
se puede utilizar para formar un recubrimiento muy delgado (por lo general menos de 0,1
micrómetros de grosor) con alta calidad y una buena adherencia al sustrato. This serves as a
foundation for subsequent plating processes. Esto sirve como base para posteriores
procesos de galvanoplastia. A strike uses a high current density and a bath with a low ion
concentration. Una huelga utiliza una alta densidad de corriente y un baño con una
concentración de iones de baja. The process is slow, so more efficient plating processes are
used once the desired strike thickness is obtained. El proceso es lento, los procesos de
enchapado, de modo más eficiente se utilizan una vez que la huelga de espesor deseado.
The striking method is also used in combination with the plating of different metals. El
método de huelga también se utiliza en combinación con las planchas de diferentes metales.
If it is desirable to plate one type of deposit onto a metal to improve corrosion resistance
but this metal has inherently poor adhesion to the substrate, a strike can be first deposited
that is compatible with both. Si es conveniente a la placa de un tipo de depósito en un metal
para mejorar la resistencia a la corrosión, pero este metal tiene intrínsecamente mala
adherencia al sustrato, una huelga puede ser el primero depositado que sea compatible con
ambos. One example of this situation is the poor adhesion of electrolytic nickel on zinc
alloys, in which case a copper strike is used, which has good adherence to both. [ 2 ] Un
ejemplo de esta situación es la mala adherencia de electrolíticos de níquel en zinc
aleaciones, en cuyo caso la huelga se utiliza una moneda de cobre, que tiene una buena
adherencia a ambos. [2]
The current density (amperage of the electroplating current divided by the surface area of
the part) in this process strongly influences the deposition rate, plating adherence, and
plating quality. La densidad de corriente (amperaje de la corriente de galvanoplastia,
dividido por la superficie de la parte) en este proceso influye la velocidad de depósito,
plateando la adhesión, y la galjanoplastia de calidad. This density can vary over the surface
of a part, as outside surfaces will tend to have a higher current density than inside surfaces
(eg, holes, bores, etc.). Esta densidad puede variar a lo largo de la superficie de una pieza,
como las superficies exteriores que tienden a tener una densidad de corriente mayor que las
superficies interiores (por ejemplo, orificios, agujeros, etc.) The higher the current density,
the faster the deposition rate will be, although there is a practical limit enforced by poor
adhesion and plating quality when the deposition rate is too high. Cuanto mayor sea la
densidad de corriente, más rápida será la velocidad de depósito será, aunque hay un límite
práctico impuesta por una mala adherencia y la calidad de la galjanoplastia cuando la tasa
de deposición es muy alta.
While most plating cells use a continuous direct current, some employ a cycle of 8–15
seconds on followed by 1–3 seconds off. Aunque la mayoría de las células de
recubrimiento utilizar una corriente continua, algunas emplean un ciclo de 15.08 segundos
en seguida por 1.3 segundos. This technique is commonly referred to as "pulse plating" and
allows high current densities to be used while still producing a quality deposit. Esta técnica
se denomina comúnmente "chapado de impulso" a medida que permite altas densidades de
corriente a utilizar y seguir produciendo un depósito de calidad. In order to deal with the
uneven plating rates that result from high current densities, the current is even sometimes
reversed in a method known as "pulse-reverse plating", causing some of the plating from
the thicker sections to re-enter the solution. Con el fin de hacer frente a los tipos de placas
irregulares que se derivan de altas densidades de corriente, la corriente se invierte a veces
incluso en un método conocido como "pulso vanisado inverso", haciendo que algunas de
las placas de las secciones más gruesas que volver a introducir la solución. In effect, this
allows the "valleys" to be filled without over-plating the "peaks". En efecto, esto permite
que los "valles", que se llena, sin exceso de recubrimiento los "picos". This is common on
rough parts or when a bright finish is required. [ 3 ] In a typical pulse reverse operation, the
reverse current density is three times greater than the forward current density and the
reverse pulse width is less than one-quarter the forward pulse width. Esto es común en las
piezas en bruto o cuando un acabado brillante se requiere. [3] En una operación típica de
impulsos inversa, la densidad de corriente inversa es tres veces mayor que la densidad de
corriente hacia adelante y el ancho de pulso inversa es menor de una cuarta parte del avance
de ancho de pulso. Pulse-reverse processes can be operated at a wide range of frequencies
from several hundred hertz up to the order of megahertz. procesos de pulso inversa puede
funcionar en una amplia gama de frecuencias de varios cientos de hertzios hasta el orden de
megahercios.
[ edit ] Brush electroplating [ editar ] Cepillo de galvanoplastia
Brush electroplating has several advantages over tank plating, including portability, ability
to plate items that for some reason cannot be tank plated (one application was the plating of
portions of very large decorative support columns in a building restoration), low or no
masking requirements, and comparatively low plating solution volume requirements.
galvanoplastia cepillo tiene varias ventajas sobre el tanque de la galjanoplastia, incluyendo
la portabilidad, la capacidad de objetos de placas que por alguna razón no puede ser el
tanque plateado (una aplicación fue el forro de las porciones de las columnas de apoyo muy
grande decorativos en la restauración de edificios), de bajo o ningún requisito de
enmascaramiento, y comparativamente bajos requisitos de la solución de la galjanoplastia
de volumen. Disadvantages compared to tank plating can include greater operator
involvement (tank plating can frequently be done with minimal attention), and inability to
achieve as great a plate thickness. Desventajas en comparación con la galjanoplastia del
tanque pueden incluir una mayor participación del operador (depósito de placas con
frecuencia se puede hacer con una mínima atención), y la incapacidad de lograr el mayor
espesor de la chapa.
Usually an electrolytic cell (consisting of two electrodes, electrolyte, and external source of
current) is used for electrodeposition. Por lo general, una celda electrolítica (que consta de
dos electrodos, electrolitos, y la fuente externa de corriente) se utiliza para
electrodeposición. In contrast, an electroless deposition process uses only one electrode and
no external source of electric current. Por el contrario, un proceso de deposición
electrolítica utiliza un solo electrodo y ninguna fuente externa de corriente eléctrica.
However, the solution for the electroless process needs to contain a reducing agent so that
the electrode reaction has the form: Sin embargo, la solución para el proceso electrolítico
debe contener un agente reductor, para que la reacción del electrodo tiene la forma:
In principle any water-based reducer can be used although the redox potential of the
reducer half-cell must be high enough to overcome the energy barriers inherent in liquid
chemistry. Electroless nickel plating uses hypophosphite as the reducer while plating of
other metals like silver, gold and copper typically use low molecular weight aldehydes. En
principio, todo basado en reductor de agua se puede utilizar aunque el potencial redox del
medio reductor de las células deben ser lo suficientemente alta como para superar las
barreras inherentes a la energía química del líquido. níquel electrolítico galjanoplastia
hipofosfito utiliza como reductor, mientras que la galjanoplastia de otros metales como
plata, oro y cobre suelen utilizar aldehídos de bajo peso molecular.
A major benefit of this approach over electroplating is that power sources and plating baths
are not needed, reducing the cost of production. Una ventaja importante de este enfoque
sobre galvanoplastia es que las fuentes de energía y baños galvánicos no son necesarios,
reduciendo el coste de producción. The technique can also plate diverse shapes and types of
surface. La técnica puede también placa de diversas formas y tipos de superficie. The
downside is that the plating process is usually slower and cannot create such thick plates of
metal. La desventaja es que el proceso de galvanizado es generalmente más lento y no
puede crear tales placas gruesas de metal. As a consequence of these characteristics,
electroless deposition is quite common in the decorative arts. Como consecuencia de estas
características, el depósito electrolítico es bastante común en las artes decorativas.
Electroplating changes the chemical, physical, and mechanical properties of the workpiece.
Galvanoplastia las transformaciones químicas, físicas y propiedades mecánicas de la pieza
de trabajo. An example of a chemical change is when nickel plating improves corrosion
resistance. Un ejemplo de un cambio químico es cuando niquelado mejora la resistencia a
la corrosión. An example of a physical change is a change in the outward appearance. Un
ejemplo de un cambio físico es un cambio en la apariencia externa. An example of a
mechanical change is a change in tensile strength or surface hardness . [ 4 ] Un ejemplo de un
cambio mecánico es un cambio en la resistencia a la tracción o la superficie de la dureza . [4]
One cannot electroplate chrome or silver on any given substrate directly. Uno no puede
electrochapa cromo o plata sobre cualquier sustrato dado directamente. Many plating
processes require an intermediate plating step. Muchos procesos de recubrimiento requieren
un paso intermedio de la galjanoplastia. For example, when chrome plating carbon steel,
one would need to electroplate copper on top of carbon steel, followed by nickel and then
chrome to get uniform chrome plated part. Por ejemplo, cuando cromado de acero al
carbono, uno tendría que electrochapa de cobre en la parte superior de acero al carbono,
seguido por el níquel y cromo a continuación para obtener cromo plateado uniforme parte.
These additional steps add considerably to the cost and time to electroplate. Estos pasos
adicionales aumentan considerablemente el costo y tiempo para galvanizar. Thicker
coatings require similar multilayer structures. capas más gruesas requieren similares
estructuras de múltiples capas. A hard chrome coating would require multiple alternating
coatings of copper and chrome. Un recubrimiento de cromo duro se requieren múltiples
capas alternas de cobre y cromo.
Although it is not confirmed, the Parthian Battery may have been the first system used for
electroplating. Aunque no está confirmado, el batería de partos puede haber sido el primer
sistema utilizado para la galvanoplastia.
By 1839, scientists in Britain and Russia had independently devised metal deposition
processes similar to Brugnatelli's for the copper electroplating of printing press plates. En
1839, científicos de Gran Bretaña y Rusia habían concebido de forma independiente los
procesos de deposición de metal similar a Brugnatelli para el cobre electrolítico de
imprenta placas. Soon after, John Wright of Birmingham , England discovered that
potassium cyanide was a suitable electrolyte for gold and silver electroplating. Poco
después, John Wright de Birmingham , Inglaterra, descubrieron que el cianuro de potasio
fue propicio electrolito para el oro y la plata de galvanoplastia. Wright's associates, George
Elkington and Henry Elkington were awarded the first patents for electroplating in 1840.
los asociados de Wright, George Elkington y Henry Elkington se otorgaron las primeras
patentes de galvanoplastia en 1840. These two then founded the electroplating industry in
Birmingham from where it spread around the world. Estos dos luego fundó la industria de
galvanoplastia en Birmingham desde donde se extendió por todo el mundo.
The Norddeutsche Affinerie in Hamburg was the first modern electroplating plant starting
its production in 1876. [ 7 ] El Norddeutsche Affinerie en Hamburgo fue la primera planta de
galvanoplastia moderna a partir de su producción en 1876. [7]
The plating industry received a big boost from the advent of the development of electric
generators in the late 19th century. La industria de los revestimientos recibió un gran
impulso desde la llegada del desarrollo de generadores eléctricos en el siglo 19. With the
higher currents, available metal machine components, hardware, and automotive parts
requiring corrosion protection and enhanced wear properties, along with better appearance,
could be processed in bulk. Con las corrientes posterior, disponible componentes de la
máquina de metal, hardware y del automóvil las piezas que requieren protección contra la
corrosión y el desgaste de propiedades mejoradas, junto con una mejor apariencia, podría
ser procesado de forma masiva.
The two World Wars and the growing aviation industry gave impetus to further
developments and refinements including such processes as hard chromium plating , bronze
alloy plating, sulfamate nickel plating, along with numerous other plating processes. El
Mundial de las dos guerras y el crecimiento de la aviación de la industria dio un nuevo
impulso a los nuevos avances y mejoras incluyendo procesos tales como duro cromado ,
bronce, aleación de galvanoplastia, chapado de níquel sulfamato, junto con numerosas
placas de otros procesos. Plating equipment evolved from manually operated tar-lined
wooden tanks to automated equipment, capable of processing thousands of kilograms per
hour of parts. Revestimiento equipos evolucionaron a partir de alquitrán operados
manualmente tanques forrados de madera para equipo automatizado, capaz de procesar
miles de kilogramos por hora de las piezas.
One of the American physicist Richard Feynman 's first projects was to develop technology
for electroplating metal onto plastic . Uno de los físico estadounidense Richard Feynman 's
primeros proyectos fue el desarrollo de tecnología para la galvanización de metales en
plástico . Feynman developed the original idea of his friend into a successful invention,
allowing his employer (and friend) to keep commercial promises he had made but could not
have fulfilled otherwise. [ 8 ] Feynman desarrolló la idea original de su amigo en un invento
con éxito, permitiendo que su empleador (y amigo) para cumplir las promesas que había
hecho comerciales, pero no podía satisfacer de otro modo. [8]
¿Cómo hacer cobrizado
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Further attempts (current density between 0 and 100 mA/cm 2 ; no H 2 SO 4 or more than 10
g/l; CuSO 4 from 50 g/l to 200 g/l) have produced the same result: I've also tried various
polishing by inorganic (HCl, H 2 SO 4 , NaOH) and organic (tetrachloroethylene, turpentine,
Acetone [link is to product info at Rockler] ) solvents. Otros intentos (densidad de corriente entre
0 y 100 mA / cm 2, n º 2 SO 4 o superior a 10 H g / l; CuSO 4 de 50 g / ly 200 g / l) han
producido el mismo resultado: También he intentado pulir varios por inorgánicos (HCl, H 2
SO 4, NaOH) y orgánicos (tetracloroetileno, aguarrás, acetona vínculo es producto de
información Rockler]) solventes [. Temperature of bath has always been around 18 degrees
Celsius. La temperatura del baño siempre ha sido de alrededor de 18 grados centígrados.
Only if I put iron pieces in the bath for few seconds and then rinse it, I can get a very very
thin copper deposit (I was not able to measure it with .01 mm caliper) that's well attached to
iron, but it's so thin that it isn't useful at all. Sólo si me pongo piezas de hierro en el baño
durante unos segundos y luego enjuague, se puede obtener un yacimiento de cobre muy
finas (que no fue capaz de medir con 0,01 mm de espesor) que está bien unida al hierro,
pero es tan delgada que no es útil en absoluto.
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I tried to find a way to do this using only nontoxic chemicals (aside from the copper itself),
but I needed to use some ethylene glycol. Traté de encontrar una manera de hacer esto
utilizando productos químicos no tóxicos sólo (aparte de la propia cobre), pero que tenía
que utilizar algunos de glicol de etileno. This stuff is toxic, has a sweet taste (or so I am
told), and pets and children might be tempted to taste it, so it must be handled by adults and
stored in locked cabinets. Este material es tóxico, tiene un sabor dulce (o eso me dicen), y
las mascotas y los niños podrían tener la tentación de probarlo, por lo que debe ser
manejado por adultos y se almacenan en gabinetes cerrados con llave. On the other hand,
anything containing copper is not good to drink, and there is enough salt in this solution to
act as an emetic. Por otro lado, cualquier cosa que contenga cobre no es buena para beber, y
no hay suficiente sal en esta solución para actuar como un emético.
All of these tests should be done under adult supervision, and the learning experience is
bound to be better this way. Todas estas pruebas deben realizarse bajo supervisión de un
adulto, y la experiencia de aprendizaje está destinado a ser mejor así. Depending on the age
of the witnesses, you can cover all sorts of exciting things, from cleaning coins with
toothpaste to chemical calculations of normality and concentration to electrochemical
equivalents. Dependiendo de la edad de los testigos, que pueden cubrir todo tipo de cosas
interesantes, de la limpieza de monedas con pasta de dientes con los cálculos de química de
la normalidad y la concentración en equivalentes electroquímicos. Except for the
brightening agent, all other supplies are household items. Excepto para el agente de brillo,
todos los suministros de otros artículos para el hogar. The ethylene glycol should be stored
in childproof areas, and the test solution should be dumped at the end of any experiment. El
glicol de etileno deben ser almacenados en áreas a prueba de niños, y la solución debe ser
objeto de dumping en el final de todo experimento. All containers should be labeled, even
as you are using them, as a matter of normal laboratory practice. Todos los envases deben
estar etiquetados, incluso a medida que los necesite, como una cuestión de buenas prácticas
de laboratorio normales.
The solution described is low in the concentration of copper, as far as plating solutions go.
La solución descrita es baja en la concentración de cobre, en cuanto a soluciones de
enchapado ir. If all of my electrolysis converted my copper anode to copper ions, and all of
it ended up in the sewer we are talking about: Si todos los de mi electrólisis convertido mi
ánodos de cobre a los iones de cobre, y todo terminó en la alcantarilla que estamos
hablando:
e = ixr e = IXR
1.5 = ix 15 ohms 1.5 = ix 15 ohmios
ix 15 = 1.5 ix 15 = 1.5
i = 0.1 amps i = 0,1 amperios
If you run the cell for 2 hours, that's 0.2 ampere hours. Si ejecuta la
celda durante 2 horas, que es 0,2 horas amperios. Looking up cupric
ion, we see that we deposit/dissolve 1.19 grams of copper metal per
ampere hour. Mirando hacia arriba ion cúprico, vemos que
depositamos / disolver 1,19 gramos de metal de cobre por hora Electroplating
amperio. So the most we could dump down the drain is 0.24 grams, not Engineering
an ecological nightmare. Así que lo más que podría arrojar por el Handbook , Lawrence
drenaje es de 0,24 gramos, no una pesadilla ecológica. The final Durney Galvanoplastia
Manual de Ingeniería ,
concentration of the cell of 100 cc, after 1 hour of electrolysis, could Durney Lawrence
reach 2.4 grams/liter (this is unlikely, as gassing is very evident,
indicating that we are not operating at 100% efficiency). La
concentración final de la celda de 100 cc, después de 1 hora de la
electrólisis, podría llegar a 2,4 gramos / litro (esto es improbable, como
cámaras de gas es muy evidente, lo que indica que no estamos
funcionando con una eficiencia del 100%).
6. 6. A copper color should develop after a few seconds of plating. Un color cobre que se
desarrollan después de unos segundos de la siembra. Jiggle the cathode during plating.
Mueva las cátodo durante la galjanoplastia. The plating brightness seems to improve after
the bath has been electrolyzed for 20 - 30 minutes. El brillo de la galjanoplastia parece
mejorar después del baño ha sido electrolizada por 20 - 30 minutos.
7. 7. You can also plate pieces for longer periods. Usted puede también piezas placa por
períodos más largos. the deposit turns black during plating of more than a few seconds,
but you can polish this deposit to an antique copper finish using toothpaste. el depósito se
vuelve negro en planchas de más de unos segundos, pero se puede pulir este depósito a
un acabado de cobre antiguo utilizando pasta de dientes. The plating is attractive, but you
can imagine that it is not as impressive or immediate in visual impact as plating gold onto
nickel. El forro es atractivo, pero se puede imaginar que no es tan impresionante o
inmediata en el impacto visual, chapado en oro sobre níquel.
8. 8. I had excellent success with adhesion on coins; all of my coins are now copper
colored, and I suppose I will have to use them in automatic vending machines unless I
want to explain what happened to them. Tuve éxito con una excelente adherencia en las
monedas, todas mis monedas son de color cobrizo, y supongo que tendré que utilizar en
máquinas de venta automática a menos que yo quiero explicar lo que les pasó. I can't
remove the copper with vigorous scrubbing. No puedo eliminar el cobre con el lavado
vigoroso. Just another reason why this process should not be left to children, unless you
want all of your conductive trinkets in antique copper. Otra razón por qué este proceso no
se debe dejar a los niños, a menos que usted desea que todos los abalorios conductor en
cobre antiguo. (You DIDN'T let the children plate the tennis bracelet Aunt Constance left
me....did you?) (Usted NO deje que la placa de los niños del tenis pulsera tía Constanza me
dejó .... ¿verdad?)
9. 9. This solution will copper (verb) iron nails by immersion. Esta solución de cobre
(verbo) clavos de hierro por inmersión. The smoother and shinier the iron, the better the
copper immersion deposit. El suave y brillante el hierro, el mejor el depósito de inmersión
de cobre.
I did not get good adhesion when I tried to electroplate an iron nail; you would need a
strike solution, and this would be difficult to make from household chemicals. No tuve una
buena adherencia cuando traté de galvanizar un clavo de hierro, se necesita de una
solución la huelga, y esto sería difícil de hacer de los productos químicos del hogar.
10. 10. Immediately after testing, dump contents into the drain, and wash all equipment
with water and detergent, then rinse with tap water. Inmediatamente después de la
prueba, volcado de contenidos en el drenaje y lavar todo el equipo con agua y detergente,
luego enjuague con agua del grifo.